資料詳細

【図書】 プラズマ半導体プロセス工学

成膜とエッチング入門 --
市川幸美／共著, 佐々木敏明／共著, 堤井信力／共著 -- 内田老鶴圃 -- ２００３．７ -- ２２ｃｍ -- ２８９ｐ

タイトル	プラズマ半導体プロセス工学
副書名	成膜とエッチング入門
著者名等	市川幸美／共著, 佐々木敏明／共著, 堤井信力／共著
出版	内田老鶴圃２００３．７
大きさ等	２２ｃｍ２８９ｐ
分類	549.8
件名	半導体 , プラズマ
注記	文献あり　索引あり
要旨	本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマＣＶＤとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
目次	第１章　プラズマと半導体プロセス；第２章　半導体プロセス用プラズマの基礎；第３章　半導体プロセス装置の概要；第４章　プラズマＣＶＤ技術；第５章　薄膜の評価方法；第６章　プラズマエッチング技術；第７章　付章　プロセシングプラズマを理解するための基礎理論
ISBN(13)、ISBN	4-7536-5048-0
書誌番号	1103055378
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1103055378

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.8/265	一般書	貸出中	-	2030404893