平成15年、平成16年改正法対応 --
山内康伸 /著   -- 工業調査会 -- 2004.12 -- 21cm -- 309p

資料詳細

タイトル 理工系のための知的財産権の基礎と実際
副書名 平成15年、平成16年改正法対応
著者名等 山内康伸 /著  
出版 工業調査会 2004.12
大きさ等 21cm 309p
分類 507.2
件名 知的所有権
注記 文献あり 索引あり
目次 第1部 知的財産制度の基礎(知的財産権とは;特許(技術の保護制度);実用新案;意匠(デザインの保護制度);商標(ブランドの保護制度;産業財産権の国際的保護制度;著作権法;不正競争防止法;その他の知的財産法));第2部 知的財産の活用の実際(特許の活用パターンと発明活動のシステム化;研究開発計画と特許法上の留意事項;発明の手法・研究開発における特許情報の利用;特許出願に当たっての特許法上の留意事項;発明者として知っておくべきこと)
ISBN(13)、ISBN    4-7693-7138-1
書誌番号 1104094443
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1104094443

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 507.2/1037 一般書 利用可 - 2033365171 iLisvirtual