電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会 /編   -- オーム社 -- 2005.10 -- 22cm -- 279p

資料詳細

タイトル プラズマイオンプロセスとその応用
著者名等 電気学会・プラズマイオン高度利用プロセス調査専門委員会 /編  
出版 オーム社 2005.10
大きさ等 22cm 279p
分類 427.6
件名 プラズマ
注記 文献あり 索引あり
内容紹介 プラズマイオンプロセス法は、半導体への応用技術においてその重要度を増してきている。プラズマ技術、イオン運動の物理、プロセスに求められる条件から、機能性薄膜の生成や半導体への応用技術まで幅広く解説。
要旨 本書では、プラズマイオンプロセス法にかかわるプラズマ技術、イオン運動の物理、三次元基材に適用する条件などの物理に関する事柄から、生産部品の改質技術、半導体への適用技術などの応用技術も広く扱われている。
目次 1章 はじめに;2章 プラズマの基礎;3章 インオシースの基礎;4章 プラズマイオンプロセスにおけるプラズマの条件;5章 プラズマ源;6章 プラズマ計測;7章 モデリング;8章 機能性薄膜の生成;9章 半導体への応用
ISBN(13)、ISBN    4-274-20123-6
書誌番号 1105075925
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1105075925

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