産業タイムズ社 -- 2005.12 -- 28cm -- 143p

資料詳細

タイトル 半導体工場ハンドブック 2006
出版 産業タイムズ社 2005.12
大きさ等 28cm 143p
分類 549.8
件名 半導体
注記 2006のサブタイトル:ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌
要旨 ナノプロセスに本格突入した次世代ラインの全貌。
目次 第1部 新世代技術に挑む次世代半導体工場(2005~2006年半導体業界展望;国内における半導体前工程工場の新増設計画 ほか);第2部 新技術・材料・プロセスに挑む装置・材料メーカー動向(リソグラフィー関連装置・材料の動向;フォトマスクおよび関連装置の動向 ほか);第3部 工場ルポ2005 次世代デバイスに挑む国内半導体工場(NEC山形;東北セミコンダクタ ほか);第4部 半導体工場分布図・ディレクトリー(半導体工場分布図(地域別);台湾半導体工場マップ ほか)
ISBN(13)、ISBN    4-88353-123-6
書誌番号 1105094316
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1105094316

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/225 一般書 利用可 - 2035741405 iLisvirtual