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【図書】 クラスターイオンビーム基礎と応用

次世代ナノ加工プロセス技術 --
山田公 ／編著   -- 日刊工業新聞社 -- ２００６．１０ -- ２１ｃｍ -- ２２３ｐ

資料詳細

タイトル クラスターイオンビーム基礎と応用
副書名 次世代ナノ加工プロセス技術
著者名等 山田公 ／編著  
出版 日刊工業新聞社 ２００６．１０
大きさ等 ２１ｃｍ ２２３ｐ
分類 549.1
件名 イオンビーム
注記 索引あり
要旨 本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。
目次 １　イオンビーム技術の概要（イオンの発見；イオンビーム技術の誕生　ほか）；２　ガスクラスタービームの発生（ガスクラスタービームの発生の原理；ガスクラスターイオンビーム装置　ほか）；３　クラスターイオンビームと固体表面相互作用（クラスターイオンの個体表面衝突現象；ガスクラスターイオンの照射効果の特長　ほか）；４　ナノ加工プロセス応用（半導体デバイス応用；磁性・誘電体デバイス応用　ほか）；５　産業用クラスターイオンビーム装置（ガスクラスターイオンビーム装置；デカボランイオン注入装置）
ISBN(13)、ISBN 978-4-526-05765-6　　 4-526-05765-7
書誌番号 1106077043
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1106077043

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 ４階自然科学 Map 549.1 一般書 利用可 - 2038259655 iLisvirtual

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