LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク --
田邉功 /著, 竹花洋一 /著, 法元盛久 /著   -- 工業調査会 -- 2006.12 -- 21cm -- 323p

資料詳細

タイトル 入門 フォトマスク技術
副書名 LSI,FPD,PWB,MEMSのためのフォトマスク
著者名等 田邉功 /著, 竹花洋一 /著, 法元盛久 /著  
出版 工業調査会 2006.12
大きさ等 21cm 323p
分類 549.8
件名 半導体
注記 索引あり
目次 第1章 フォトマスク技術の基本;第2章 半導体フォトマスク;第3章 電子部品用マスク;第4章 先端フォトマスク技術;第5章 NGLマスク技術;第6章 マスク産業の現状;第7章 リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し
ISBN(13)、ISBN    4-7693-1259-8
書誌番号 1106088561

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 4階自然科学 Map 549.8 一般書 利用可 - 2037866361 iLisvirtual