資料詳細

【図書】 ナノテクノロジーとレジスト材料

ＣＭＣテクニカルライブラリー --
山岡亞夫／監修 -- シーエムシー出版 -- ２００７．４ -- ２１ｃｍ -- ２５３ｐ

タイトル	ナノテクノロジーとレジスト材料
シリーズ名	ＣＭＣテクニカルライブラリー
著者名等	山岡亞夫／監修
出版	シーエムシー出版２００７．４
大きさ等	２１ｃｍ２５３ｐ
分類	549.7
件名	集積回路 , 精密加工
注記	『新しいレジスト材料とナノテクノロジー』（２００２年刊）の普及版
目次	第１編　トップダウンテクノロジー（ナノテクノロジーの概要―広がりゆくナノテクノロジー；ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料；Ｘ線リソグラフィ；超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界）；第２編　広がりゆく微細化技術（高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂；微細化するスクリーン印刷；デジタル化と印刷製版；ヘテロ系記録材料と特徴）；第３編　新しいレジスト材料（分子協調材料によるナノパターニング；走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用；近接場光；表面反応；自己組織化；光プロセスと応用；ナノインプリントへの挑戦と応用分野）
ISBN(13)、ISBN	978-4-88231-921-4　　 4-88231-921-7
書誌番号	1107027759

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	４階自然科学 Map		549.7	一般書	利用可	-	2038532076