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【図書】 プラズマ　プロセスの原理

第２版 --
Ｍｉｃｈａｅｌ　Ａ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ ／著, Ａｌｌａｎ　Ｊ．Ｌｉｃｈｔｅｎｂｅｒｇ ／著, 佐藤久明 ／訳, 堀勝 ／監修   -- 丸善 -- ２０１０．１ -- ２６ｃｍ -- ６１２ｐ

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タイトル プラズマ　プロセスの原理
版情報 第２版
著者名等 Ｍｉｃｈａｅｌ　Ａ．Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ ／著, Ａｌｌａｎ　Ｊ．Ｌｉｃｈｔｅｎｂｅｒｇ ／著, 佐藤久明 ／訳, 堀勝 ／監修  
出版 丸善 ２０１０．１
大きさ等 ２６ｃｍ ６１２ｐ
分類 427.6
件名 プラズマ , 薄膜
注記 Ｐｒｉｎｃｉｐｌｅｓ　ｏｆ　ｐｌａｓｍａ　ｄｉｓｃｈａｒｇｅｓ　ａｎｄ　ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ．２ｎｄ　ｅｄ．／の翻訳
注記 初版：ＥＤリサーチ社２００１年刊
注記 文献あり　索引あり
著者紹介 【Ｌｉｅｂｅｒｍａｎ】カリフォルニア大学大学院バークレー校電気工学科教授。プラズマ、プラズマ・プロセス、非線形運動の分野で１７０件以上の論文を発表。
内容紹介 半導体製造装置で使用される弱電離、非平衡プラズマに焦点を絞り、プラズマとプラズマ・プロセスに関する解析方法を、基礎から応用まで解説。得られた解析結果をいかにして適用すればよいか、例題を用いて提示する。
ISBN(13)、ISBN 978-4-621-08223-2　　 4-621-08223-X
書誌番号 1110006367

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 427.6/14 一般書 利用可 - 2044008699 iLisvirtual

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