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【図書】 薄膜工学

第２版 --
吉田貞史 ／編著, 近藤高志 ／編著, 金原粲 ／監修   -- 丸善出版 -- ２０１１．６ -- ２１ｃｍ -- ２９５ｐ

資料詳細

タイトル 薄膜工学
版情報 第２版
著者名等 吉田貞史 ／編著, 近藤高志 ／編著, 金原粲 ／監修  
出版 丸善出版 ２０１１．６
大きさ等 ２１ｃｍ ２９５ｐ
分類 549.8
件名 薄膜
注記 初版：丸善２００３年刊
注記 索引あり
内容紹介 基礎的な技術でありながら、関係する応用分野が広く、エレクトロニクス技術の最先端を担う薄膜技術。本書は、その基本事項を解説するとともに、最近の著しい技術発展を踏まえて改訂を行った。
要旨 薄膜技術は、非常に基礎的な技術でありながら関係する応用分野が広く、最先端エレクトロニクスに不可欠な基盤技術でもある。本書は、その基本事項を解説するとともに、最近の著しい技術発展を踏まえて改訂を行い、微細加工技術を用いた２次元、３次元微細構造の導入や基板の大型化・高速化を可能にした装置技術、新しい薄膜作製手法、原子・分子スケールでの測定技術なども取り上げて解説する。本書は、薄膜分野の研究や技術開発に携わる人々の入門書として、また、薄膜の基礎技術の解説書として、格好の書である。
目次 １　薄膜工学の基礎（薄膜の基礎；薄膜のプロセスと応用）；２　薄膜の作製法（真空蒸着；スパッタリング；化学気相成長法）；３　薄膜の評価（形状・構造評価；組成評価・分析；力学的・機械的性質の評価）；４　薄膜の機能と応用（半導体薄膜；光学薄膜と透明導電膜；誘電体薄膜；磁性薄膜；薄膜の化学的性質と機能；有機薄膜）
ISBN(13)、ISBN 978-4-621-08414-4　　 4-621-08414-3
書誌番号 1111045661

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所蔵

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/285 一般書 利用可 - 2046744449 iLisvirtual
港北 公開 Map 549 一般書 利用可 - 2046781417 iLisvirtual

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