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【図書】 図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み

リソグラフィ技術の核心に迫る -- Ｈｏｗ－ｎｕａｌ　ｖｉｓｕａｌ　ｇｕｉｄｅ　ｂｏｏｋ --
佐藤淳一 ／著   -- 秀和システム -- ２０１１．１０ -- ２１ｃｍ -- ２７１ｐ

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タイトル 図解入門よくわかる最新半導体リソグラフィの基本と仕組み
副書名 リソグラフィ技術の核心に迫る 微細化の鍵
シリーズ名 Ｈｏｗ－ｎｕａｌ　ｖｉｓｕａｌ　ｇｕｉｄｅ　ｂｏｏｋ
著者名等 佐藤淳一 ／著  
出版 秀和システム ２０１１．１０
大きさ等 ２１ｃｍ ２７１ｐ
分類 549.7
件名 集積回路 , 半導体
注記 文献あり　索引あり
著者紹介 京都大学大学院工学研究科修士課程修了。１９７８年東京電気化学工業（株）入社。８２年ソニー（株）入社。半導体先端テクノロジーズ創立時に出向等。現在はナノフロント研究所代表として半導体技術コンサルタント、テクニカルライターとして活動。応用物理学会員。
内容紹介 半導体チップの微細回路を生み出すキーテクノロジー「リソグラフィ」技術をわかりやすく解説した入門書。プロセスフローを例にして、基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
要旨 プロセスフローを例にして基礎から発展までの技術が豊富なイラストで手に取るようにわかる。
目次 リソグラフィ技術とは引き算のプロセス？；光リソグラフィの発展；露光技術と装置；レジスト材料；レジスト塗布と現像；マスクとリソグラフィ技術；ＥＵＶリソグラフィ；リソグラフィの計測技術；多彩なパターニング技術；ＣＭＯＳロジックプロセス（フロントエンド）；ａ－Ｓｉ　ＴＦＴプロセス；ａ－Ｓｉ太陽電池プロセス
ISBN(13)、ISBN 978-4-7980-3063-0　　 4-7980-3063-5
書誌番号 1111067155

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 ４階自然科学 Map 549.7 一般書 利用可 - 2047035387 iLisvirtual
磯子 公開 Map 549 一般書 利用可 - 2047035379 iLisvirtual

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