資料詳細

  • 1 件中、 1 件目

【図書】 半導体・ＭＥＭＳのための超臨界流体

近藤英一 ／編著, 上野和良 ／共著, 内田寛 ／共著, 曽根正人 ／共著, 生津英夫 ／共著, 服部毅 ／共著, 堀照夫 ／共著, 森口誠 ／共著   -- コロナ社 -- ２０１２．９ -- ２１ｃｍ -- ２２７ｐ

資料詳細

タイトル 半導体・ＭＥＭＳのための超臨界流体
著者名等 近藤英一 ／編著, 上野和良 ／共著, 内田寛 ／共著, 曽根正人 ／共著, 生津英夫 ／共著, 服部毅 ／共著, 堀照夫 ／共著, 森口誠 ／共著  
出版 コロナ社 ２０１２．９
大きさ等 ２１ｃｍ ２２７ｐ
分類 549.8
件名 半導体 , マイクロマシン , 超臨界流体
注記 並列タイトル：Ｓｕｐｅｒｃｒｉｔｉｃａｌ　Ｆｌｕｉｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　ｉｎ　ＭＥＭＳ　ａｎｄ　Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ
注記 文献あり　索引あり
著者紹介 【近藤】１９８５年早稲田大学理工学部卒。８７年同大学院博士前期課程修了。８７年川崎製鐵（株）勤務。９４年同ハイテク研究所主任研究員。９６年ＩＭＥＣ研究員。９７年ＩＭＥＣエキスパート研究員。９８年九州工業大学助教授。２０００年山梨大学助教授。０７年同教授。現在に至る。
内容紹介 気体と液体の性質を併せもつ超臨界流体について、特長と、乾燥、薄膜堆積、洗浄など、半導体・ＭＥＭＳのユニットプロセスへの応用をわかりやすく解説。超臨界流体のマイクロプロセス応用としては初めての本。
目次 １　超臨界流体とマイクロ・ナノプロセス；２　半導体とＭＥＭＳの製造プロセス；３　超臨界乾燥；４　超臨界流体を用いた半導体・ＭＥＭＳ洗浄技術；５　多孔質薄膜と細孔エンジニアリング；６　めっきへの応用；７　化学的薄膜堆積；８　超臨界流体を用いたエッチング加工
ISBN(13)、ISBN 978-4-339-00837-1　　 4-339-00837-0
書誌番号 1112063911
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1112063911

ページの先頭へ

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 ４階自然科学 Map 549.8 一般書 利用可 - 2049660920 iLisvirtual

ページの先頭へ