普及版 -- エレクトロニクスシリーズ --
豊田浩一 /監修, 岡崎信次 /監修   -- シーエムシー出版 -- 2013.3 -- 26cm -- 273p

資料詳細

タイトル EUV光源の開発と応用
版情報 普及版
シリーズ名 エレクトロニクスシリーズ
著者名等 豊田浩一 /監修, 岡崎信次 /監修  
出版 シーエムシー出版 2013.3
大きさ等 26cm 273p
分類 549.95
件名 紫外線 , リソグラフィー
目次 第1編 EUV光源の開発(露光装置とEUVリソグラフィ;EUVリソグラフィ用光源プラズマ;プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状;究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマX線源 ほか);第2編 EUVリソグラフィ用のマスクとレジスト技術(X線多層膜の物理;EUV用反射型マスク基板;EUV用マスク;EUVレジストの特異性と反応機構 ほか)
ISBN(13)、ISBN 978-4-7813-0709-1   4-7813-0709-4
書誌番号 1113028712
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1113028712

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 4階自然科学 Map 549.9 一般書 利用可 - 2050169297 iLisvirtual