資料詳細

【図書】 化合物半導体のエピタキシャル成長

多様な成長技術とその応用 --
堀越佳治／共著, 河原塚篤／共著 -- 内田老鶴圃 -- ２０２３．１２ -- ２１ｃｍ -- ２２０ｐ

タイトル	化合物半導体のエピタキシャル成長
副書名	多様な成長技術とその応用
著者名等	堀越佳治／共著, 河原塚篤／共著
出版	内田老鶴圃２０２３．１２
大きさ等	２１ｃｍ２２０ｐ
分類	549.8
件名	化合物半導体 , 薄膜
注記	索引あり
著者紹介	【堀越佳治】東北大学工学部電気工学科卒、同大大学院工学研究科電子工学専攻修士課程、博士課程修了。工学博士。東北大学客員教授などを経て、早稲田大学理工学部教授。早稲田大学名誉教授。（本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです）
目次	第１章　半導体の種類と特徴；第２章　化合物半導体エピタキシャル成長の概要；第３章　液相エピタキシャル成長法（ＬＰＥ）とその応用；第４章　有機金属気相エピタキシャル成長法（ＭＯＶＰＥ）とその応用；第５章　分子線エピタキシャル成長法（ＭＢＥ）とその応用；第６章　ＭＯＶＰＥにおける流量変調エピタキシー（ＦＭＥ）；第７章　ＭＢＥにおけるマイグレーション・エンハンスト・エピタキシー（ＭＥＥ）；第８章　選択エピタキシャル成長法（ＳＡＥ）；第９章　エピタキシャル成長結晶の半導体レーザ（ＬＤ）への応用
ISBN(13)、ISBN	978-4-7536-5051-4　　 4-7536-5051-0
書誌番号	1122106421

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	４階自然科学		549.8	一般書	貸出中	-	2075632480