資料詳細

【図書】 最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

普及版 -- ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ　ＬＩＢＲＡＲＹ -- エレクトロニクスシリーズ
河合晃／監修 -- シーエムシー出版 -- ２０２４．８ -- ２６ｃｍ -- ３２０ｐ

タイトル	最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
版情報	普及版
シリーズ名	ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ　ＬＩＢＲＡＲＹエレクトロニクスシリーズ
著者名等	河合晃／監修
出版	シーエムシー出版２０２４．８
大きさ等	２６ｃｍ３２０ｐ
分類	578.4
件名	感光性樹脂 , リソグラフィー
注記	並列タイトル：Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ　ｆｏｒ　Ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌ　Ｒｅｓｉｓｔ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ　ａｎｄ　Ｐｒｏｃｅｓｓ　Ｏｐｔｉｍｉｚａｔｉｏｎ
目次	第１編　総論；第２編　フォトレジスト材料の開発；第３編　フォトレジスト特性の最適化と周辺技術；第４編　材料解析・評価；第５編　応用展開；第６編　レジスト処理装置
ISBN(13)、ISBN	978-4-7813-1774-8　　 4-7813-1774-X
書誌番号	1124026922
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1124026922

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	４階自然科学 Map		578.4	一般書	利用可	-	2076996280