超高速MOSデバイス --
培風館 -- 1986.2 -- 24cm -- 373p

資料詳細

タイトル 超高速ディジタルデバイス・シリーズ 2
各巻タイトル 超高速MOSデバイス
出版 培風館 1986.2
大きさ等 24cm 373p
分類 549
件名 集積回路
注記 監修:菅野卓雄
内容 各章末:参考文献
要旨 本書は,超ISI,超々LSIの中心技術であるMOSデバイスについて,超高速化,高性能化の観点に立って,基本事項から応用に致る広範な内容を体系的に,かつ詳細に記述した総合的解説書である。東芝の研究技術陣が,最先端の技術と知識を含め,徹底的に解説している。MOSデバイスの基本思想,歴史的発展の概観からはじめ,基礎となる動作理論,物理的性質を述べる。サブミクロン領域への挑戦も含んだプロセス技術,CAD技術,論理およびメモリ回路の基本から高速化をめざした具体的回路設計の例まで数多くのデータと図を用いて説明する。特にMOSデバイスの高速化を,単に単体デバイスあるいは回路要素のみでなく,システムレベルでの高速化,高性能化という視点に立って解説する。最後に3次元LSIなど,将来動向と課題について考察する。
目次 MOSデバイスの基礎と物理;基本プロセス技術;MOSデバイスのプロセス構成法;シュミレーション技術;MOS論理デバイス;MOSメモリデバイス;MOSデバイスの将来動向と課題
ISBN(13)、ISBN    4-563-03420-7
書誌番号 1190218213

所蔵

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549/289 一般書 利用可 - 0005844886 iLisvirtual