資料詳細

【図書】 ＶＬＳＩの薄膜技術

電子材料シリーズ --
伊藤隆司／〔ほか〕共著 -- 丸善 -- １９８６．０９ -- ２２ｃｍ -- ２５０ｐ

タイトル	ＶＬＳＩの薄膜技術
シリーズ名	電子材料シリーズ
著者名等	伊藤隆司／〔ほか〕共著
出版	丸善１９８６．０９
大きさ等	２２ｃｍ２５０ｐ
分類	549.7
件名	集積回路 , 薄膜
内容	各章末：参考文献
要旨	今日のＶＬＳＩの進展は著しく、それを支える薄膜技術は多様化を極め、対象となる材料も絶縁物、半導体、金属、有機材料と多岐にわたっています。また、新しい薄膜技術の研究開発にも目覚しいものがあり、次の世代のトータルプロセスの中でその位置づけを把握することが不可欠となっています。本書は、現在使われている技術の単なる解説にとどまらず技術の流れと将来のデバイスの製造に向けての課題をも著し、薄膜技術の全貌を分かりやすく解説するものです。
目次	１　ＶＬＳＩにおける薄膜の役割；２　酸化；３　ＣＶＤ膜の形成と物性；４　高誘電率絶縁膜の形成と物性；５　金属薄膜の形成法；６　高融点金属薄膜；７　シリサイド薄膜；８　アルミニウムとその合金；９　多層配線技術
ISBN(13)、ISBN	4-621-03112-0
書誌番号	1190232784
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1190232784

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.7/136	一般書	利用可	-	0003791122