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【図書】 薄膜の基本技術

第２版 -- 物理工学実験 --
金原粲 ／著   -- 東京大学出版会 -- １９８７．９ -- ２１ｃｍ -- １７０ｐ

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タイトル 薄膜の基本技術
版情報 第２版
シリーズ名 物理工学実験
著者名等 金原粲 ／著  
出版 東京大学出版会 １９８７．９
大きさ等 ２１ｃｍ １７０ｐ
分類 549.8
件名 薄膜
内容 参考書：ｐ１５７～１５８
目次 １．　はじめに；２．　薄膜作製に必要な真空装置の基礎（基本的な真空装置；真空ポンプの原理）；３．　真空蒸着法（基本的な公式；蒸着薄膜作製の具体例）；４．　スパタリング法（スパタリングの基本；基本的なスパタリング装置―二極直流スパタリング法）；５．　プラズマプロセス（プラズマＣＶＤ；イオンプレーティング）；６．　膜厚測定法（膜厚とは何か；繰返し反射干渉法；電気抵抗法）；７．　関連技術（単結晶薄膜の作製技術；非晶質薄膜の作製技術；電極の蒸着）
ISBN(13)、ISBN 　　 4-13-063041-5
書誌番号 1190259199

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549/151 一般書 利用可 - 0001641476 iLisvirtual

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