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【図書】 スパッタ技術

和佐清孝，早川茂 ／著, 　   -- 共立出版 -- １９８８．６ -- ２２ｃｍ -- ２２７ｐ

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タイトル スパッタ技術
著者名等 和佐清孝，早川茂 ／著, 　  
出版 共立出版 １９８８．６
大きさ等 ２２ｃｍ ２２７ｐ
分類 549
件名 薄膜
内容 各章末：文献
要旨 本書は、スパッタ技術の世界的権威である著者らの基礎から実用に至る研究実績を基にして、実際に役立つ最先端のスパッタ技術を収録したもので、超電導を始めとした２１世紀への材料開発に不可欠、必携の書である。セラミックス高温超電導体の薄膜化など最新の具体的事例を数多くとりあげスパッタの基礎から応用に至る技術を詳細かつ平易に解説。
目次 １章　序言（スパッタ現象；スパッタとエレクトロニクス；スパッタと新素材）；２章　スパッタの基礎（スパッタ率とその変化要素；スパッタ粒子；スパッタ機構）；３章　スパッタ装置と基本特性（放電特性；スパッタ装置；スパッタ装置の取扱い）；４章　スパッタによる薄膜化（化合物薄膜とその形成法；酸化物薄膜の形成；窒化物薄膜の形成；炭化物、珪化物薄膜の形成；セレン化合物薄膜の形成；アモルファス薄膜の形成；有機物薄膜の形成；超格子構造の形成）；５章　スパッタによる微細加工（イオンビームスパッタエッチング；ダイオードスパッタエッチング；プラズマエッチング）
ISBN(13)、ISBN 　　 4-320-08477-2
書誌番号 1190277820

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549/139 一般書 利用可 - 0003643166 iLisvirtual

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