資料詳細

【図書】 ＬＳＩプロセス工学

改訂２版 --
右高正俊／編著, 鈴木道夫／〔ほか〕共著 -- オーム社 -- １９８８．１２ -- ２２ｃｍ -- ２８３ｐ

タイトル	ＬＳＩプロセス工学
版情報	改訂２版
著者名等	右高正俊／編著, 鈴木道夫／〔ほか〕共著
出版	オーム社１９８８．１２
大きさ等	２２ｃｍ２８３ｐ
分類	549.7
件名	集積回路
内容	各章末：参考文献
要旨	ＬＳＩプロセスに応用されている物理・化学現象と、実際の装置・設備の両面から詳しく解説し、急速な技術の進歩に即応できる多方面の知識が得られる内容となっています。日進月歩の技術革新に対応して全面改訂！
目次	１章　概説；２章　ＬＳＩ、超ＬＳＩ基本プロセス概要；３章　ＬＳＩ基本回路構成；４章　ＬＳＩプロセスの基礎；５章　リソグラフィ技術と装置；６章　ＬＳＩプロセス装置；７章　ＬＳＩ、超ＬＳＩプロセス；８章　清浄化技術；９章　結言
ISBN(13)、ISBN	4-274-03223-X
書誌番号	1190309454
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1190309454

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.7/83	一般書	利用可	-	0004453824