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【図書】 超ＬＳＩレジストの分子設計

表面・薄膜分子設計シリーズ --
津田穣 ／著   -- 共立出版 -- １９９０．４ -- １９ｃｍ -- １１７ｐ

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タイトル 超ＬＳＩレジストの分子設計
シリーズ名 表面・薄膜分子設計シリーズ
著者名等 津田穣 ／著  
出版 共立出版 １９９０．４
大きさ等 １９ｃｍ １１７ｐ
分類 578.4
件名 感光性樹脂 , 集積回路
注記 叢書の編者：日本表面科学会
内容 文献：ｐ１１０～１１３
目次 序章　なぜ、レジストの研究をするのか？；第１章　超ＬＳＩレジストの要件；第２章　オルソジアゾナフトキノン系フォトレジストの分子設計；第３章　ネガ型レジストの分子設計；第４章　高感度化の分子設計；第５章　ドライ現象のためのレジストの分子設計；第６章　解像力向上技術
ISBN(13)、ISBN 　　 4-320-08511-6
書誌番号 1190350260

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所蔵

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 578.4/70 一般書 利用可 - 0003242900 iLisvirtual

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