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【図書】 日本の半導体開発

劇的発展を支えたパイオニア２５人の証言 --
西沢潤一，大内淳義 ／共編, 　   -- 工業調査会 -- １９９３．３ -- ２２ｃｍ -- ３９７ｐ

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タイトル 日本の半導体開発
副書名 劇的発展を支えたパイオニア２５人の証言
著者名等 西沢潤一，大内淳義 ／共編, 　  
出版 工業調査会 １９９３．３
大きさ等 ２２ｃｍ ３９７ｐ
分類 549.8
件名 半導体
注記 鳩山道夫ほかの肖像あり
内容 内容：トランジスタ開発を先導（鳩山道夫）　トランジスタの初試作とＬＴＰ（関壮夫）　「研究」から「事業」への道（岩瀬新午）　トランジスタからＬＳＩ（浅川俊文）　固体論とＩＣの実用化研究（長船広衛）　ソニーの礎を築く（塚本哲男）　独創との闘い（西沢潤一）　半導体表面を研究（武石喜幸）　シリコンサイクルをくぐり抜けて（鈴木政男）　超ＬＳＩ実用化の道を拓く（垂井康夫）　半導体激変の時代を先導（伝田精一）　半導体事業を世界一に（大内淳義）　ゲルマニウム検波器からジョセフソン接合まで（菅野卓雄）　ＭＯＳ　ＦＥＴを製品化（大野稔）　半導体の事業化に賭ける（伴野正美）　半導体研究と実用化の間（徳山巍）　イオン注入技術を先導（伊藤糾次）　ビームテクノロジーと半導体（難波進）　超整合材料の試作に挑む（古川静二郎）　半導体レー
目次 「半導体立国」への壮大な戦記；トランジスタ開発を先導　鳩山道夫；トランジスタの初試作とＬＴＰ　関壮夫；「研究」から「事業」への道　岩瀬新午；トランジスタからＬＳＩ　浅川俊文；固体論とＩＣの実用化研究　長船広衛；ソニーの礎を築く　塚本哲男；独創との闘い　西沢潤一；半導体表面を研究　武石喜幸；シリコンサイクルをくぐり抜けて　鈴木政男；超ＬＳＩ実用化の道を拓く　垂井康夫；半導体激変の時代を先導　伝田精一；半導体事業を世界一に　大内淳義；ゲルマニウム検波器からジョセフソン接合まで　菅野卓雄；ＭＯＳ　ＦＥＴを製品化　大野稔；半導体の事業化に賭ける　伴野正美；半導体研究と実用化の間　徳山巍；イオン注入技術を先導　伊藤糾次；ビームテクノロジーと半導体　難波進；超整合材料の試作に挑む　古川静二郎；半導体レーザへの挑戦　南日康夫；化合物半導体デバイスを研究　今井哲二；ガリウムひ素結晶の開発　鈴木隆；小さな発明の事業化　三浦敬男；経営の三本柱の一つに育てる　池亀護；フラッシュメモリを開発　舛岡富士雄
ISBN(13)、ISBN 　　 4-7693-1104-4
書誌番号 1193038401
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1193038401

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/208 一般書 利用可 - 0031180629 iLisvirtual

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