志村史夫 /著   -- 丸善 -- 1993.9 -- 22cm -- 424p

資料詳細

タイトル 半導体シリコン結晶工学
著者名等 志村史夫 /著  
出版 丸善 1993.9
大きさ等 22cm 424p
分類 549.8
件名 シリコン(半導体)
要旨 本書は、半導体材料の基本であるシリコン結晶の工学を基礎から応用まで一貫して述べたものである。著者の、デバイスメーカ・材料メーカ・大学の三者での研究生活の経験を生かし、デバイスと材料の相関を意識した内容となっている。また、図面を多く取り入れ、文献をふんだんに紹介するなどの便宜が図ってある。
目次 単結晶の育成;ウエーハ加工と洗浄;酸化膜と窒化膜;絶縁体上のシリコン層;結晶欠陥の解析と制御;結晶欠陥の制御;結語 シリコン結晶工学の将来
ISBN(13)、ISBN    4-621-03876-1
書誌番号 1193047149

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/104 一般書 利用可 - 0007288760 iLisvirtual