プロセスの低温・無損傷化を実現 --
高橋清 /〔ほか〕編著   -- 工業調査会 -- 1994.03 -- 21cm -- 266p

資料詳細

タイトル 光励起プロセスの基礎
副書名 プロセスの低温・無損傷化を実現
著者名等 高橋清 /〔ほか〕編著  
出版 工業調査会 1994.03
大きさ等 21cm 266p
分類 549
件名 電子材料
注記 各章末:参考文献
目次 光励起プロセスの概論;光励起プロセスの基礎;表面反応・気相反応の基礎過程;光励起プロセスによる膜形成の基礎過程;反応の診断・計測;光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス;光励起エッチング反応とその応用;光励起プロセスのデパイスへの応用;光励起プロセスの将来展望
ISBN(13)、ISBN    4-7693-1122-2
書誌番号 1194029368

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549/208 一般書 利用可 - 0008890340 iLisvirtual