応用物理学シリーズ -- 専門コース
平木昭夫 /共著, 成沢忠 /共著   -- オーム社 -- 1994.09 -- 22cm -- 141p

資料詳細

タイトル 表面・界面の分析と評価
シリーズ名 応用物理学シリーズ 専門コース
著者名等 平木昭夫 /共著, 成沢忠 /共著  
出版 オーム社 1994.09
大きさ等 22cm 141p
分類 549.8
件名 半導体
注記 叢書の編者:応用物理学会 各章末:参考文献
要旨 本書は、半導体技術の核となる半導体‐金属界面での反応の分析・評価を軸に、著者の経験をふまえつつ新たな研究開発に向けた様々な示唆に富む内容となっています。
目次 1章 序論;2章 Si‐金属界面での低温反応;3章 分析手法の基礎;4章 ラザフォード後方散乱法;5章 電子分光法;6章 その他の分光法
ISBN(13)、ISBN    4-274-12976-4
書誌番号 1194065516

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/152 一般書 利用可 - 2001541385 iLisvirtual