資料詳細

【図書】 デバイスプロセス

電子・情報工学講座 --
河東田隆／著 -- 培風館 -- １９９３．０１ -- ２２ｃｍ -- ２２８ｐ

タイトル	デバイスプロセス
シリーズ名	電子・情報工学講座
著者名等	河東田隆／著
出版	培風館１９９３．０１
大きさ等	２２ｃｍ２２８ｐ
分類	549
件名	電子工学
注記	参考文献：各章末
要旨	半導体集積回路技術の進展に伴い、大学においてもその基礎教育が重要となっている。本書は、半導体集積回路と光デバイスの製作プロセス技術を中心に、その基礎を分かりやすく解説した教科書である。
目次	１　主な半導体デハイスの製作プロセス；２　バルク結晶の成長；３　エピタキシャル成長技術；４　ウエハの加工と表面処理；５　絶縁膜の形成；６　不純物拡散とイオン注入；７　微細パターンの形成；８　電極と配線の形成および実装；９　クリーンルームと関連技術；１０　電子材料の種類と実用的に使用されるための条件；１１　アモルファスシリコン・デバイスの製作プロセス；１２　材料・デバイスプロセスにおける評価；１３　デバイスの微細化にともなう問題点と新技術；１４　量子効果デバイス作製のための新技術
ISBN(13)、ISBN	4-563-03342-1
書誌番号	1194075075
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1194075075

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549/288	一般書	利用可	-	2002174386