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【図書】 半導体研究 ４１巻

超ＬＳＩ技術 -- １９ --
半導体研究振興会 ／〔編〕   -- 工業調査会 -- １９９５．０８ -- ２７ｃｍ -- ３５３ｐ

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タイトル 半導体研究 ４１巻
各巻タイトル 超ＬＳＩ技術 １９
著者名等 半導体研究振興会 ／〔編〕  
出版 工業調査会 １９９５．０８
大きさ等 ２７ｃｍ ３５３ｐ
分類 549.8
件名 半導体
内容 各章末：参考文献
目次 １　ディープサブミクロンＣＭＯＳ技術；２　不揮発性半導体メモリに要求される酸化膜の信頼性；３　光リソグラフィの高解像度化技術；４　ＥＣＲプラズマによる微細加工技術；５　高周波高密度プラズマの生成と高速・高選択比ＳｉＯ２／Ｓｉエッチング；６　半導体プロセスにおけるチャージアップ；７　サブハーフミクロン多層配線技術；８　単結晶Ａｌ配線技術；９　Ｓｉ（１１１）表面への水素原子吸着と平坦化
ISBN(13)、ISBN 　　 4-7693-1140-0
書誌番号 1195044381

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/1/41 一般書 利用可 - 2004690829 iLisvirtual

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