資料詳細

【図書】 フォトマスク技術のはなし

超ＬＳＩ、液晶、プリント板を支える --
田辺功／〔ほか〕共著 -- 工業調査会 -- １９９６．０８ -- ２１ｃｍ -- ２６２ｐ

タイトル	フォトマスク技術のはなし
副書名	超ＬＳＩ、液晶、プリント板を支える
著者名等	田辺功／〔ほか〕共著
出版	工業調査会１９９６．０８
大きさ等	２１ｃｍ２６２ｐ
分類	549.8
件名	半導体
内容	各章末：参考文献
要旨	本書はフォトマスクの全般について解説したものである。単にフォトマスクを紹介することに留まらず、ＬＳＩマスクを代表にしたマスク技術の変遷、次世代のマスクおよび今後の展望にも言及した。
目次	第１章　フォトマスクとは；第２章　フォトマスク製造の基本技術；第３章　ＬＳＩ用フォトマスクの実際；第４章　ＬＣＤ用フォトマスクの実際；第５章　ＰＷＢ用フォトマスクの実際；第６章　クリーン化技術；第７章　次世代マスクの技術展望；第８章　今後の展望
ISBN(13)、ISBN	4-7693-1149-4
書誌番号	1196048268
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1196048268

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.8/162	一般書	利用可	-	2008456332