アドバンストエレクトロニクスシリーズ -- エレクトロニクス材料・物性・デバイス
原央 /編   -- 培風館 -- 1997.06 -- 22cm -- 286p

資料詳細

タイトル ULSIプロセス技術
シリーズ名 アドバンストエレクトロニクスシリーズ エレクトロニクス材料・物性・デバイス
著者名等 原央 /編  
出版 培風館 1997.06
大きさ等 22cm 286p
分類 549.7
件名 集積回路
内容 各章末:参考文献
要旨 ICから、ULSI、さらにGSIへと発展しようとしている集積回路は、高度情報・通信社会の基盤を支える技術である。本書はこれら最先端の集積回路を実現するために必要な、広範囲なプロセス技術に関する解説書である。
目次 1 集積回路の構造と必要なプロセス技術;2 微細加工技術;3 簿膜堆積技術;4 酸化膜技術;5 不純物導入技術;6 清浄化技術;7 結晶成長技術;8 高・強誘電体薄膜形成技術;9 プロセスモジュール技術;10 プロセスシミュレーション技術;11 ULSIプロセス技術の将来動向と課題
ISBN(13)、ISBN    4-563-03617-X
書誌番号 1197035977
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1197035977

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.7/132 一般書 利用可 - 2011391454 iLisvirtual