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【図書】 ＶＬＳＩとＣＶＤ

半導体デバイスへのＣＶＤ技術の応用 --
前田和夫 ／著   -- 槙書店 -- １９９７．０７ -- ２２ｃｍ -- ３９６ｐ

資料詳細

タイトル ＶＬＳＩとＣＶＤ
副書名 半導体デバイスへのＣＶＤ技術の応用
著者名等 前田和夫 ／著  
出版 槙書店 １９９７．０７
大きさ等 ２２ｃｍ ３９６ｐ
分類 549.8
件名 薄膜
内容 参考文献：ｐ３７７～３８４
目次 １章　ＣＶＤとシリコンデバイス；２章　ＣＶＤ技術概論；３章　ＣＶＤによる膜形成法；４章　ＣＶＤ膜形成用原料化合物；５章　ＣＶＤ膜形成反応の制御；６章　ＣＶＤ膜形成各論；７章　ＣＶＤ膜の評価技術；８章　ＣＶＤ膜の応用；９章　ＣＶＤ装置；１０章　ＣＶＤ技術の将来展望
ISBN(13)、ISBN 　　 4-8375-0645-3
書誌番号 1197049998
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1197049998

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/138 一般書 利用可 - 2011774132 iLisvirtual

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