資料詳細

【図書】 半導体研究４４巻

超ＬＳＩ技術 -- ２２ --
半導体研究振興会／〔編〕 -- 工業調査会 -- １９９８．０５ -- ２７ｃｍ -- ４０４ｐ

タイトル	半導体研究４４巻
各巻タイトル	超ＬＳＩ技術２２
著者名等	半導体研究振興会／〔編〕
出版	工業調査会１９９８．０５
大きさ等	２７ｃｍ４０４ｐ
分類	549.8
件名	半導体
内容	各章末：参考文献
要旨	本書は、これからのギガビット時代に向けて、回路、デバイス、プロセスの多方面にわたり、基礎から考えるものである。
目次	１章　サブ０．１μｍ　ＣＭＯＳ‐ＬＳＩのデバイス・回路技術；２章　ＳＩＭＯＸ技術を用いた高性能・低消費電力ＬＳＩ；３章　強誘電体不揮発メモリのプロセスデバイス技術；４章　トンネルゲート酸化膜ＭＯＳＦＥＴ技術；５章　ＳｉＯ２ホール内でのエッチング表面反応；６章　コンピュータと実験を最適に動員するＣＶＤモデリング；７章　酸化マンガン研磨剤を用いたＣＭＰ技術；８章　ＵＬＳＩデバイスにおける埋め込み多層配線技術；９章　Ａｌ系配線の高信頼化技術
ISBN(13)、ISBN	4-7693-1163-X
書誌番号	1198024407

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.8/1/44	一般書	利用可	-	2007650224