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【図書】 半導体プロセス技術

半導体工学シリーズ --
丹呉浩侑 ／編   -- 培風館 -- １９９８．１１ -- ２２ｃｍ -- ３２５ｐ

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タイトル 半導体プロセス技術
シリーズ名 半導体工学シリーズ
著者名等 丹呉浩侑 ／編  
出版 培風館 １９９８．１１
大きさ等 ２２ｃｍ ３２５ｐ
分類 549.8
件名 半導体
内容 文献あり　索引あり
要旨 本書は、現在のＬＳＩの基幹を成しているＳｉ　ＭＯＳ　ＬＳＩプロセスを中心に記述したものである。これからこの分野の勉強を始めようとする学生・大学院生、あるいは技術者のため、半導体プロセスに関する理論と技術をできる限り整理し、基礎的事項を学べるようにまとめた。まず、ＭＯＳ　ＬＳＩの基本素子であるＭＯＳトランジスタの基本的知識とＭＯＳトランジスタなどの素子の製作に必要なプロセスモジュールを概観した後、リングラフィ、エッチング、不純物導入技術などからプロセス評価技術まで、個々の要素プロセスの内容を体系的かつ詳細に記述している。
目次 １　基本素子の動作機構と製作プロセス；２　プロセスモジュールと製作プロセス；３　リソグラフィ；４　エッチング技術；５　絶縁膜技術；６　不純物導入技術；７　薄膜堆積技術；８　ウェーハ清浄化技術；９　結晶・ウェーハ技術；１０　プロセスシミュレーション；１１　半導体プロセス評価技術
ISBN(13)、ISBN 　　 4-563-03298-0
書誌番号 1198069826
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1198069826

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/127 一般書 利用可 - 2016042415 iLisvirtual

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