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【図書】 シリコン系ヘテロデバイス

古川静二郎，雨宮好仁 ／編著, 　   -- 丸善 -- １９９１．７ -- ２２ｃｍ -- ３１１ｐ

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タイトル シリコン系ヘテロデバイス
著者名等 古川静二郎，雨宮好仁 ／編著, 　  
出版 丸善 １９９１．７
大きさ等 ２２ｃｍ ３１１ｐ
分類 549.8
件名 シリコン（半導体）
内容 各章末：文献
要旨 本書は、ヘテロ構造によるＳｉ系デバイスの高性能化を目標に、そのための基礎理論からヘテロ材料・製造プロセス・最新のデバイス特性にいたるまでを詳述したものである。近年の半導体デバイス・集積回路のめざましい進歩は、シリコンに負うところが非常に大きく、その状況は今後も変わらないと考えられ、シリコンの枠内で新しい分野を開拓することが強く望まれている。本書はそのような観点でまとめられた初めてのものであり、Ｓｉ系デバイスの研究者・技術者にとって格好の書である。
目次 第１章　シリコン系ヘテロ接合デバイスの意義と研究動向；第２章　半導体ヘテロ接合の性質；第３章　シリコンバイポーラトランジスタの高速化；第４章　シリコンヘテロ材料に要求される性質；第５章　ＳｉＣヘテロエミッタ；第６章　非晶質半導体系ヘテロエミッタ；第７章　シリコン酸化物ヘテロエミッタ；第８章　Ｓｉ‐Ｇｅ系ヘテロ構造；第９章　バンドギャップ縮小効果と擬似ヘテロ接合デバイス；第１０章　新しいヘテロ材料の可能性とその展望；第１１章　ＧａＡｓ系ＨＢＴの最近の進歩
ISBN(13)、ISBN 　　 4-621-03611-4
書誌番号 1190385237
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1190385237

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/101 一般書 利用可 - 0004659937 iLisvirtual

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