電子デバイスプロセス技術 -- 第2版 --
麻蒔立男 /著   -- 日刊工業新聞社 -- 2001.09 -- 21cm -- 295p

資料詳細

タイトル 超微細加工の基礎
副書名 電子デバイスプロセス技術
版情報 第2版
著者名等 麻蒔立男 /著  
出版 日刊工業新聞社 2001.09
大きさ等 21cm 295p
分類 549.8
件名 半導体 , 精密加工
内容 索引あり
目次 超微細加工;単結晶とガラスの基板;熱酸化;リソグラフィー(露光・描画技術);エッチング;ドーピング―熱拡散とイオン注入;薄膜の基本的性質と薄膜作成法の概要;気相成長法・CVD・エピタクシー;蒸着とイオンプレーティング;スパッタ;精密めっき;平坦化技術
ISBN(13)、ISBN    4-526-04812-7
書誌番号 1101059730
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1101059730

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.8/305 一般書 利用可 - 2025805405 iLisvirtual