構造,特性,製造プロセスから次世代TFTまで --
鵜飼育弘 /著   -- 工業調査会 -- 2007.10 -- 21cm -- 267p

資料詳細

タイトル 薄膜トランジスタ技術のすべて
副書名 構造,特性,製造プロセスから次世代TFTまで
著者名等 鵜飼育弘 /著  
出版 工業調査会 2007.10
大きさ等 21cm 267p
分類 549.6
件名 トランジスター
注記 索引あり
要旨 TFT‐LCDとして一大産業を築き上げた薄膜トランジスタ(TFT)は、ガラス基板上への回路機能集積、シリコン系デバイス以外への開発活発化など、新たな時代に突入しようとしてる。本書は、a‐Si TFT開発の黎明期からR&Dおよび事業化に携わった技術者が、TFTの全貌から学会を賑わせている最先端情報までを余すところなく解説。
目次 1 薄膜トランジスタ(TFT)とは;2 薄膜トランジスタの開発経緯;3 薄膜トランジスタのデバイス構造と特性;4 薄膜トランジスタの製造技術;5 薄膜トランジスタの応用技術;6 薄膜トランジスタの将来展望
ISBN(13)、ISBN 978-4-7693-1268-0   4-7693-1268-7
書誌番号 1107075555
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1107075555

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所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 4階自然科学 Map 549.6 一般書 利用可 - 2039379875 iLisvirtual