資料詳細

  • 1 件中、 1 件目

【図書】 超ＬＳＩプロセス制御工学

津屋英樹 ／著   -- 丸善 -- １９９５．０３ -- ２２ｃｍ -- ３１３ｐ

資料詳細

タイトル 超ＬＳＩプロセス制御工学
著者名等 津屋英樹 ／著  
出版 丸善 １９９５．０３
大きさ等 ２２ｃｍ ３１３ｐ
分類 549.7
件名 集積回路
注記 各章末：参考文献
要旨 本書は、材料・プロセス技術を欠陥制御という観点から述べたものである。欠陥の本質をおさえた上で、基本的にどんな問題が潜んでいるのか、これまではどう克服されてきたか、さらに今後どんな課題があるのかを多くの具体例を示しながら解説している。また、ＬＳＩに関わる各技術を個々のものとしてではなくスルー技術として捉えており、巨視点な思考の必要性を示唆している。材料・プロセス・デバイスの各分野、さらに量産現場に携わる技術者・研究者にとって必読の書である。
目次 デバイス特性と結晶欠陥；デバイス構造に起因する欠陥とその制御；プロセスに起因する欠陥とその制御；シルコン結晶基板に起因する欠陥とその制御；ゲッタリング技術；シリコン結晶の不純物・欠陥測定評価技術；シリコン集積回路デバイスのさらなる発展へ向けて
ISBN(13)、ISBN 　　 4-621-04047-2
書誌番号 1195016026
URL https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1195016026

ページの先頭へ

所蔵

所蔵は 1 件です。現在の予約件数は 0 件です。

所蔵館 所蔵場所 別置 請求記号 資料区分 状態 取扱 資料コード
中央 書庫 549.7/229 一般書 利用可 - 2018698938 iLisvirtual

ページの先頭へ