資料詳細

【図書】 最新半導体プロセス技術２０００

Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　＆　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ -- 月刊Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　ｗｏｒｌｄ増刊号 --
プレスジャーナル -- １９９９．１１ -- ２８ｃｍ -- ３８８ｐ

タイトル	最新半導体プロセス技術２０００
副書名	Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　＆　ｅｑｕｉｐｍｅｎｔ
シリーズ名	月刊Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　ｗｏｒｌｄ増刊号
出版	プレスジャーナル１９９９．１１
大きさ等	２８ｃｍ３８８ｐ
分類	549.8
件名	半導体
目次	第１編　総論（０．１３μｍ時代の半導体工場；０．１３μｍ時代の新材料／新プロセス技術）；第２編　各論（リソグラフィ技術；エッチング技術；イオン注入技術；洗浄・アッシング技術；酸化・アニール技術；電極・配線形成技術　ほか）
ISBN(13)、ISBN	4-89466-076-8
書誌番号	1199070647
URL	https://opac.lib.city.yokohama.lg.jp/winj/opac/switch-detail.do?bibid=1199070647

所蔵

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所蔵館	所蔵場所	別置	請求記号	資料区分	状態	取扱	資料コード
中央	書庫		549.8/51/2000	一般書	利用可	-	2018540951